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【课程回顾】走进张盛东老师的《超大规模集成电路工艺》课堂

发布时间:2017-11-16 ,

2017年11月11-12日,虽然今天听说是“双十一”,不过这显然与我没有多大关系,因为这两天是北京大学信息显示技术专业在职研究生课程《超大集成电路工艺》的上课时间,本次课程由北京大学张盛东教授授课。

我们都知道”集成电路技术在过去五十年里飞速发展,从最初的电子管,到后来的晶体管分立元件,再到后来集成电路工艺的成熟,再到后来的超大规模集成电路的发展。。。晶体管之间的距离,从最初的微米量级,到了后来的纳米量级:100nm,40nm,30nm,再到现在的22nm,。。。。。工艺一步步地飞速发展,手里的电子设备也越来越小,TFT面板制造技术也随着半导体工艺的发展而飞速发展。

器件性能的好坏,设备和工艺是关键,尤其随着器件尺寸越来越小,行业内各路豪杰拼的便是设备,设备的先进性和稳定性决定着企业能否先发制人,捷足先登而成王。本次课程张老师生动详细地展示了物理气相沉积PVD设备及化学气相沉积CVD设备的原理及结构,讲解了各种PVD和CVD之间的优劣性以及各薄膜在设备腔室里的成膜过程及影响因素,内容涵盖了多个学科,包含许多设备制造所必须掌握的理论知识。 

此外,张老师还详细介绍了器件制作工艺的各个步骤以及重点注意事项,如光刻、刻蚀、离子注入、金属化等。学生听得津津有味,专业知识更是提高了不少,以前对很多工艺过程以及概念都模模糊糊,经过本堂课的学习,如醍醐灌顶般瞬间豁然开朗。最后各位同学还热情高涨地跟张老师讨论行业内或者工作中遇到的各种专业问题,张老师也利用渊博的知识和丰富的经历跟大家排疑解难!金秋是硕果累累的季节,同时也是学生们收获满满的季节,连续上了两天的课程,同学的脸上依旧笑容灿烂,丝毫没有疲惫之感,只因在专业知识的熏陶中满载而归。

总之集成电路的发展、技术流派、工艺制成、材料设备张老师都一一详细介绍,把复杂的制备过程被张老师讲的浅显易懂、生动活泼、让我们受益匪浅,期待下再还有机会听张老师的课。

    撰稿:林某